地址:江门
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邮箱:量产12英寸硅片(缺陷密度<0.1/cm2),供货全球TOP3晶圆厂。采用CZ单晶生长技术,通过SEMI国际标准认证。正在开发第三代半导体衬底,目标2028年实现碳化硅片国产替代。
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地址:武安
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邮箱:建成10万吨级CCUS装置(捕集率90%),服务火电/钢铁行业。采用胺法吸收技术,通过CDM方法学认证。正在研发直接空气捕集,计划2027年实现负排放。
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